第62回サイエンスカフェ講演会を下記の通り開催いたします。
どなたでも自由にご参加いただけます。皆様のご参加お待ちしております。
日時： 平成30年2月2日（金） 16:30～18:00
場所： 山梨大学T1号館3階 33号室
講師： 都甲薫 准教授（筑波大学）
題目： 絶縁体上における高機能IV族材料の薄膜合成技術
講演概要：
現在、ほとんどの高機能半導体デバイスは単結晶基板上に形成されている。もし、ガラスやプラスチック等の絶縁材料の上にこれらの半導体デバイスを構築することができれば、生産コストの大幅な低減に加え、アプリケーションの飛躍的な拡大が可能となる。しかし、結晶ではない絶縁基板上に高品質な半導体結晶を得ることは難しく、また、プロセス温度は基板の耐熱温度によって制限される。絶縁体上の高性能デバイス実現には、高品質薄膜の低温合成技術が求められる。
講演者は、絶縁体上におけるIV族半導体薄膜の合成技術について、当該分野をリードしてきた。講演では、絶縁体上薄膜として最高の正孔移動度を有するゲルマニウム薄膜や、プラスチック上で最高の熱電変換特性を示すIV族混晶薄膜の合成法について紹介する。また、これらの技術の他材料（多層グラフェン等）への応用についても展望する。
